ニッケルりん無電解めっき型アルミニウム磁気ディスク基板をポリシング相対速度を変えてポリシングし, 端面形状の変化を実験的に調べ, その形成機構を検討した.本研究の範囲内で得た主な結果をまとめると次のようになる.
(1) ニッケルりん無電解めっき後の基板端面は, 盛上がったもの (端面山型) とダレ下がったもの (端面ダレ型) がある.
(2) ポリシャ回転を止め, 基板のみを回転してポリシングすると, 端面山形成が生じる.一方, 基板回転を止め, ポリシャのみを回転してポリシングすると, 端面ダレが増加する.
(3) 基板とポリシャが同時に回転する通常のポリシング作業では, ポリシャの回転が遅い場合には, 端面山が, また, 回転が速い場合には, 端面ダレが生じる.
(4) 端面山形成型ポリシングでは, 大きなダレ量を持つ端面ダレ型基板の端面ダレ半径幅Δ
RXを減少することができる.例えば, 1.5mm程度のΔ
RXを約500μmにすることができ, 基板有効面積を4%以上増加することができた.
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