表面科学
Online ISSN : 1881-4743
Print ISSN : 0388-5321
ISSN-L : 0388-5321
15 巻 , 10 号
選択された号の論文の9件中1~9を表示しています
  • Ch. J. RAUB
    1994 年 15 巻 10 号 p. 630-636
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    水はめっきに携わる者が最もよく使う電解液の基本である。そのため,めっき層の特性への水素の影響はたいへん重要である。ここではそれが,どのようにして混入するか,そしてなぜこの問題が重要であるのかについて述べる。本論文は,アナハイムで開催されたSUR/FIN'93のオープニングセッションで,著者が行った第34回ウイリアムブラム講演を編集したものである。
  • 渡辺 徹
    1994 年 15 巻 10 号 p. 637-644
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    エピタキシーに関する研究のほとんどは蒸着やスパッタリングなど,ドライプロセスにおける薄膜形成のものである。しかし,ウェットプロセスであるいわゆるめっき膜のエピタキシャルに関するものもいくつかある。それによると,素地材料が金属材料であるとき,めっき膜はすべてエピタキシャル成長をし,素地材料と結晶学的に何らかの整合関係をもって密着していることを報告している。これはめっき膜は金属材料そのものであり,素地の金属と金属結合しているからであろう。本論文ではそれらの整合関係と,界面の結晶学的な歪を調整するために現れるミスフィット転位や,ミスフィット双晶についても解説した。
  • 高井 まどか, 逢坂 哲彌
    1994 年 15 巻 10 号 p. 645-649
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    めっき法により作製した軟磁性材料の代表的な合金はパーマロイで,NiFe系の合金である。パーマロイは保磁力が小さく透磁率が高いことから古くから磁気ヘッドや,磁気シールド材へ応用されてきた。最近HDD(ハードディスクドラィブ)の小型化,大容量化にともなった磁気記録媒体の要求に対応すべく,書き込み能力に優れた高い飽和磁束密度を合わせもつ軟磁性材料が磁気ヘッド材料として必要とされ,高密度磁気記録HDDにおいて採用されている薄膜磁気ヘッドは,ヘッドコア部にパーマロイめっき技術が用いられている。そこで,本解説では薄膜磁気ヘッドが生まれた経緯を概説し,磁気ヘッドコア材として使用されているパーマロイめっき膜の特性について述べる。さらに高飽和磁束密度をもつ軟磁性材料のめっきに関するわれわれの最近の研究を取りあげ紹介する。
  • 松田 均, 鷹野 修
    1994 年 15 巻 10 号 p. 650-655
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    磁気記録技術は現代社会において欠かせない役割を担っており,大型コンピュータからホームビデオに至るまで,その適用範囲はますます拡大されている。また,社会の情報化の進展により記録の高密度化も進み,記録密度は10年間で10倍の割合で増加している。このような状況を背景として,記録媒体そのものの特性に対する要求性能も高まり,磁性粉を塗布した従来の塗布型媒体では,限界に達しつつある。薄膜型媒体の作製手段としは,従来より,乾式の蒸着法,スパッタ法が主流である。しかし,無電解めっき法によれば,(1)数100Å の低膜厚側から均一膜厚の薄膜が作製できる,(2)作製条件の変化により幅広い磁気特性を得ることができる,などの特徴があり,媒体作製手段として優れている。さらに,量産性の面でも乾式法に比べ有利であるなどの理由により,今後,無電解めっき法が磁気記録媒体作製の分野において大きな一翼を担うものとして期待されている。本稿では,無電解Co系合金磁性膜の研究の経緯ならびに現状を,1.磁性膜の作製条件2.析出膜の微細構造3.記録媒体への応用研究の3分野に分けて解説する。
  • 松村 宗順, 大高 徹雄
    1994 年 15 巻 10 号 p. 656-659
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    材料の加工技術は,あらゆる産業界において最も必要とされる技術であり,今日の産業基盤を支えるエレクトロニクスや精密加工機械などでは欠かすことのできない技術であり,現代の技術の最先端を創造しているといっても過言ではない。また,産業の経済性の観点からも必須技術である。近年の科学技術の進歩は,各種の極限状態の「機能」を求めるようになり,それらを満たしながらさらにより高度なものへと進展してきた。これらの機能を満足させるためには,今までと違った概念で「物」すなわち「材料」を考えていく必要がある。それには材料自体の改質という方法と,もう一つはその材料の表面だけを改質する二つの方法があり,最近では後者の表面改質技術でなされる手段が一般化しはじめている。「めっき」という表面処理の手法には,乾式法と湿式法の二つがある。歴史的には湿式法は近代の手法になって約200年あまりを経て長い経験が蓄積され,現在の技術となっている。最近の湿式法による新しい技術創製の手法としては「合金めっき」あるいは「複合めっき」などが注目を浴びている。特に本報ではその中でも機能性に富んだ「複合めっき」の新しい技術と応用について解説する。
  • 浅利 栄治, 中村 一隆, 河辺 隆也, 北島 正弘
    1994 年 15 巻 10 号 p. 660-663
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    Real-time Raman measurements of graphite are performed during and after deuterium ion irradiation at sample temperatures between 353K and 473K. There are two distinct thermal relaxation processes, i. e. fast and slow ones. The activation energy of the fast process is 0.91±0.15eV and is comparable with that for helium ion irradiation. The activation energy of the slow process is 0.25±0.11 eV and is obviously different from that for helium ion irradiation (1.8±0.3eV).
  • 今井 文一, 国森 公夫, 野副 尚一
    1994 年 15 巻 10 号 p. 664-667
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    We developed a newly designed radical beam source for the synthesis of high quality ceramic thin films. Radical species were generated by an electrodeless radio frequency discharge of 13.56 MHz. We succeeded in generation of stable atomic oxygen beam which contained few ionic species. Intensity of the beam was as high as 1.4×1016 atoms/cm2·s at 5 cm from the end of beam source. Epitaxial thin films of anatase form of TiO2 and TiN were synthesized on MgO (100) single crystal substrates by using oxygen radical beam and nitrogen radical beam, respectively.
  • 辻 幸一, 佐藤 成男, 広川 吉之助
    1994 年 15 巻 10 号 p. 668-674
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2009/08/07
    ジャーナル フリー
    In our previous paper on Takeoff Angle-Dependent X-Ray Fluorescence (TAD-XRF) method, the dependence of fluorescent X-ray intensity on the takeoff angle is measured, and it is also shown that the characterization of thin films is possible by using the method. In this paper, we present a newly developed analytical method, Glancing-Incidence and -Takeoff X-Ray Fluorescence (GIT-XRF) method, to measure the TAD-XRF curves at various incident angles of the primary X-ray. Compared with conventional total reflection X-ray fluorescence methods, GIT-XRF has unique advantages: (1) The observation depth for the fluorescent X-rays is restricted by both the incident and takeoff angles. Therefore, when the incident angle and the takeoff angle are set to below the critical angle for total reflection, the observation depth becomes extremely small, and a surfacesensitive analysis is achieved. (2) In GIT-XRF, the TAD-XRF curves are measured at various incident angles, and thus the thin film is cross-checked with many experimental curves, and moredetailed analysis of the thin film has been possible. In this paper, the GIT-XRF of Mn/Au double-layers is reported, and the characteristics of the GIT-XRF method for the surface and thin-film analysis are shown.
  • 池宮 範人, 北村 彰史, 原 茂太
    1994 年 15 巻 10 号 p. 675-677
    発行日: 1994/12/10
    公開日: 2010/02/05
    ジャーナル フリー
    Atomic force microscopy has been used to investigate the surface morphology changes of the SrTiO3(100) surface prepared by polishing and annealing at 900∼1300K under an oxygen atmosphere of 0.1 MPa. Atomically-flat terracestep structures have been obtained by annealing at 1100 K. Annealing at 1300 K, however, resulted in morphology changes from flat to rough and non-facet surfaces.
feedback
Top