表面科学
Online ISSN : 1881-4743
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33 巻 , 6 号
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巻頭言
特集:酸化物表面のウェットプロセス
研究紹介
  • 大澤 健男, 岩谷 克也, 清水 亮太, 一杉 太郎
    原稿種別: 研究紹介
    2012 年 33 巻 6 号 p. 357-362
    発行日: 2012/06/10
    公開日: 2012/06/29
    ジャーナル フリー
    We have developed a low-temperature, high-magnetic-field scanning tunneling microscope combined with pulsedlaser deposition, and studied atomic-scale growth of SrTiO3 (STO) and LaAlO3 thin films. A (√13×√13 )-R33.7o STO(001) substrate, prepared in oxygen atmosphere, is atomically resolved and plays a crucial role in elucidating the initialgrowth process. When homoepitaxial STO films were grown on the (√13×√13 ) substrate surfaces, additional TiOx layer of the substrate was transferred to the film surfaces. Atomic-scale microscopic/spectroscopic approach opens up awayto atom-by-atom controlled oxide epitaxial films and heterostructures.
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