巻号一覧
44 巻, 9 号
選択された号の論文の8件中1～8を表示しています
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水谷 直樹, 林 俊雄2001 年 44 巻 9 号 p. 788-794
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
ジャーナル フリープラズマエッチング装置のRFバイアス電極に入射するイオンのエネルギーを正確に測定できるRF基準のIEAについて紹介した.QMSもRF基準とすることで各イオン種のIED測定を可能にし, それを用いてDC基準との違い, 圧力依存性, IEDにおけるピークの位置, イオン種による分布形状の違いを調べ, それらの結果が比較的簡単な計算モデルで定性的に説明できることを示した.IEDの他に, RFバイアス電極でのNEDやIADの測定についても紹介した.本稿で示したデータは測定装置の開発段階で得られたものである.RF基準のIEAがプラズマプロセスの研究に使用された例は現在までのところ極めて少ないが, 様々なプロセスの機構の解明に向けて今後の応用, 発展が期待される.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (848K) -
池田 武, 畑中 義式2001 年 44 巻 9 号 p. 795-801
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
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高島 成剛, 堀 勝, 後藤 俊夫2001 年 44 巻 9 号 p. 802-807
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
ジャーナル フリープロセスプラズマ中の水素原子絶対密度計測のため, マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光システムの開発を行った.光源の自己吸収は, 水素分圧7Pa以下にすることで, 計測に影響のないレベルまで低減できることが判明した.また, 光源の発光プロファイルは, 水素原子温度400Kのドップラー拡がりとドップラー拡がりの2倍のローレンツ拡がりからなるフォークト型であると見積もられた.このシステムを用い, 誘導結合型水素プラズマ中の水素原子絶対密度計測を行った.水素原子密度は, パワー100W, 流量100sccmにおいて, 圧力1.33Paから66.5Paの増加に伴い, 1.4×1011cm-3から1.2×1012cm-3へと増加した.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (844K) -
門倉 貞夫2001 年 44 巻 9 号 p. 808-814
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
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田村 繁治, 安本 正人, 上條 長生, 鈴木 芳生, 淡路 晃弘, 竹内 晃久, 高野 秀和, 香村 芳樹, 半田 克己2001 年 44 巻 9 号 p. 815-821
発行日: 2001/09/20
公開日: 2010/01/29
ジャーナル フリーX線集光素子の1つである多層膜フレネルゾーンプレート (FZP) の作製方法, 開発したFZPを利用した集光実験の成果および関連分野の世界の研究動向を紹介した.大型放射光施設SPring-8における集光実験ではトップレベルのデータが得られ, 多層膜FZPは特に高エネルギー領域 (>25keV) の集光にも有効であることがわかった.FZPは連続100時間以上の使用の間, 放射線損傷は観察されなかった.このことから, 高輝度放射光を利用した硬X線顕微鏡の実用化に大きく前進したと言える.測定された性能値を理論値に限りなく近づけるためには, 成膜工程を中心に一層の工夫が必要である.今後, ゾーン (多層膜界面) の平滑性を改善するために成膜条件の検討, 成膜装置の改良を引き続き行うと共に, 多層膜FZPの結像特性の理論的考察も行いたい.また, マイクロビームを利用して微小領域の元素マッピング, 化学状態のイメージングなどを行う予定である.
本報告で紹介した以外にも注目すべき新しい硬X線領域用の集光素子が最近相次いで発表され, 今後の進展が期待される.
集光テストを行ったSPring-8での利用研究課題の課題番号は, 1999A0091-NM-np, 1999B0080-CM-np, 1999B0103-NM-np, 2000AO160-NM-npである.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1144K) -
長濱 治男2001 年 44 巻 9 号 p. 822-830
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
ジャーナル フリーIn a inductively or capacitively coupled radio frequency discharge by a single frequency, the transition voltage Vc or power Pc from glow to arc discharge depends on the gas pressure p. When superposing two applied fields with different frequencies at the same time, if Vc decreases comparing with the value of single-frequency discharge, r.f. discharge plasma with high ionization state can be easily generated.
In a medium vacuum capacitively coupled r.f. discharge, effects of superposing two applied fields with different frequencies, that is, 2 MHz and 13.5 MHz have been studied. As a result, Vc of 2 MHz side has decreased by the superposed effects in the low pressure region (ω>ν), but Vc has not decreased in the high pressure region (ω<ν). Variations of Pc by the superposed effects in the discharge space of 13.5 MHz side have not been able to observe in all pressure region.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1817K) -
田尻 桂介, 壁谷 善三郎, 斉藤 芳男2001 年 44 巻 9 号 p. 831-836
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
ジャーナル フリーA new copper electroforming is compared with conventional electroformings which have been applied for vacuum components. The new copper electroforming characterized by the use of electrolyte which contains no organic additives and by periodic reverse electrolysis is called PR process.
The pure copper deposit obtained from the PR process shows better performance than the deposits by conventional processes for electrical resistivity (IACS), thermal stability and electrical break down at high vacuum.
And unlike the conventional processes, the PR process has excellent bath stability needed to keep deposit's quality constant. Also, the PR process is quite suitable for complex configuration components as the conventional pyrophosphate process.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1870K) -
6.電離真空計の残留電流と逆X線効果辻 泰2001 年 44 巻 9 号 p. 837-841
発行日: 2001/09/20
公開日: 2009/10/20
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