巻号一覧
5 巻, 3 号
選択された号の論文の5件中1～5を表示しています
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山田 愿蔵1962 年 5 巻 3 号 p. 95-103
発行日: 1962/03/20
公開日: 2009/09/29
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小沢 正義1962 年 5 巻 3 号 p. 104-109
発行日: 1962/03/20
公開日: 2009/09/29
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山本 進一郎1962 年 5 巻 3 号 p. 110
発行日: 1962/03/20
公開日: 2009/09/29
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俣野 経一, 伊藤 昭夫1962 年 5 巻 3 号 p. 111
発行日: 1962/03/20
公開日: 2009/09/29
ジャーナル フリー計算機メモリーに使用する磁性薄膜の蒸着に、ZrO2を被覆したBeOルツボを用いて好結果を得たので報告する。筆者等は前報で、蒸着にZrO2ルツボを用いるか、またはBeOルッボのPermalloy溶湯面にZrO2粉末を散布しておくと、磁性薄膜の抗磁力H2のばらつきが小さくなることを報告した。その後筆者等はこの方法を改良して、BeOルツボの内面にZrO2を塗布して焼結したルツボを使って薄膜メモリー素子を試作したが、試作したメモリー素子の特性はZrO2ルツボを開いた場合と同様に良好であった。
ZrO2磁器はそれと金属内容物との熱膨張率の差が大きいから、蒸着を終えてルツボを冷却するときにルツボが割れる欠点がある。こんど筆者等が用いた内面被覆ルツボはBeOルツボと同様に熱衝撃に強く、急激に昇降温しても割れなかった。またBeOルツボはZrO2ルツボにくらべて高温でのガス放出が多いが、ZrO2被覆ルツボはZrO2ルツボと同じ程度にガス放出が少なかった。このルツボを用いて次のことも実験を行った。抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (187K) -
富永 五郎, 辻 泰, 金 文沢1962 年 5 巻 3 号 p. 112-119
発行日: 1962/03/20
公開日: 2009/09/29
ジャーナル フリーIn a vacuum apparatus outgassing rate can be calculated from the pressure variation after the valve is closed. This process is called the build-up-test. The build-up-test for the apparatus constructed with stainless steel (trap, valve and piping), copper (mass spectrometer casing) and Teflon gasket has been studied using an ionization gauge, a Pirani gauge and a gas detector (180° type mass spectrometer).
A main constituent is N2+CO component, M/e=28, in the gases evolved during the test. The pressure variation for each component is markedly influenced by the pumping action of the ionization gauge.
The ratio, pa/po, between the final pressure observed and that calculated from the build-up-test is also discussed. pa/po for M/e=2, 12, 14, 16 and 28 are situated at the value 15. It is 20500 for M/e=18, 40, 44 and others larger than 50. pa/po for the total pressure is 611. It is clarified that pa/po for the total pressure is increased with amounts of components of M/e=18, 40, 44 and others larger than 50.
A slow rate desorption is observed in the build-up-test done for 200 hrs. The saturation pressure and the activation energy of desorption for this case are 10-2 Tom and 24 Kcal/mole, respectively.
Water vapour is a main component of residual gases in the apparatus evacuated for 15hrs. at the room temperature without liquid oxygen trap. The partial pressure of water vapour can be, however, much reduced by the evacuation for 15hrs. at 150°C bakeout with liquid oxygen trap.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1519K)
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