核置換ヒドロキノンと4,4′-ジフェニルジカルボン酸からなるポリアリラートに1, 2-ビス (フェノキシ) エタン-4,4′-ジカルボン酸または1,2-ビス (2-クロルフェノキシ) エタン-4,4′-ジカルボン酸を共重合したポリアリラートは, 300℃以下で液晶を形成することがわかった. これらポリアリラートの紡出糸の弾性率は, 繊維径0.05~0.13mmで52~145GPaと高弾性率であり, 射出成形品の曲げ弾性率もEastman Kodak社の液晶ポリエステル, X-7Gの1.5~2.0倍の曲げ弾性率を有し, メチルヒドロキノンと4,4′-ジフェニルジカルボン酸及び1,2-ビス (2-クロルフェノキシ) エタン4,4′-ジカルボン酸からなるポリアリラートの曲げ弾性率は, 成形品厚み0.8mmで31.5GPaと高弾性率であった. 一方, メチルヒドロキノンと4,4′-ジフェニルジカルボン酸及び1,2-ビス (フェノキシ) エタン-4,4′-ジカルボン酸からなるポリアリラートの紡出糸の破断面の走査型電子顕微鏡から流動方向に配向した年輪状の板状フィブリルのあることがわかった.
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