ビスフェノール A ビス(クロロホルメート)(BABC)と 1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル)エタン(THPE)との反応をピリジン存在下,THF 中,25℃,3 時間の条件で行い,対応する可溶性のハイパーブランチポリカーボネート(HBPC)を高収率で合成した.次に,得られた HBPC と無水メタクリル酸との反応をピリジン中,25℃,12 時間の条件で行い,末端にメタクリロイル基を有するハイパーブランチポリカーボネート(HBPCMA)を合成した.HBPCMA の光ラジカル重合は,3 wt%の光ラジカル重合開始剤を添加した HBPCMA のフィルムを作製し,光源として 250-W 超高圧水銀灯を用いて光照射を行った.その結果,光ラジカル重合は容易に進行し,光照射 15 分でのメタクリロイル基の反応率は 28%に達した.同様に,末端にメタクリロイル基を有する直鎖状ポリカーボネート(LPCMA)を合成し,その光ラジカル重合についても検討を行った.その結果,同様の光照射条件下での LPCMA 中のメタクリロイル基の反応率は 13%であった.このことは,HBPCMA は LPCMA と比較して優れた光重合特性を有することを示唆している.次に,HBPCMA および LPCMA の光ラジカル重合前後の屈折率測定を行った結果,HBPCMA の光ラジカル重合前後の屈折率変化(Δ
nD)は 0.007 あったのに対して,LPCMA は 0.004 であり,光ラジカル重合前後で,HBPCMA は LPCMA と比較して大きな屈折率変化を示すことも判明した.
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