巻号一覧
69 巻, 1 号
選択された号の論文の17件中1～17を表示しています
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河津 璋2000 年 69 巻 1 号 p. 1
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
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岩井 洋, 大見 俊一郎2000 年 69 巻 1 号 p. 4-14
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーLSI (大規模集積回路)は多数の薄膜の集積により形成される電子回路である. LSI素子の微細化とともにこれらの膜の薄膜化も進み,膜厚という面からはこれ以上の薄膜化ができないという限界に近づいているものもある.薄膜化の限界の回避,あるいはLSIの高性能化や,多機能化のために最近になって今までには使われてこなかった新しい材料の検討が盛んになされるようになってきた.本報告では, LSIに使われる各種薄膜の発展の過程と現状を報告し,将来に向けた研究開発の一端を紹介する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (12960K) -
白石 賢二2000 年 69 巻 1 号 p. 15-21
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーシリコン表面プロセスにおいて現れる水素の複雑な挙動とその起源について,最近の研究を紹介しながら概観する.水素による未結合手(ダングリングボンド)の終端は,「表面エネルギーの低下とそれに伴う反応性の減少」,および「表面付近のボンドの硬化とそれに伴う表面原子の動きやすさ (Mobility) の減少」を引き起こす.これに対し,水素吸着表面への原子状水素の照射は表面の共有結合ボンドを切断するように働くことがある.この結果として,表面にダングリングボンドが生成され,「シリコン表面の表面エネルギーの上昇とそれに伴う反応性の増加」,および「表面付近のボンドの軟化とそれに伴う表面シリコン原子の動きやすさ (Mobility) の増加」などの現象が起こる.このように水素は条件によってまったく反対の効果をシリコン表面プロセスに与える.このことはシリコン表面プロセスに与える水素の効果を複雑で不可思議なものにしている.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1543K) -
塚原 園子2000 年 69 巻 1 号 p. 22-28
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー超高真空状態で真空装置を構成する真空容器・内部部品の材料表面が真空に接すると,金属材料中に固溶する水素原子は固体内を拡散・表面で分子に再結合・真空中に脱離の過程で放出ざれるので,真空壁から放出される最大残留気体は水素となる.この過程で何が水素の放出速度を決めるのか実験から提案されている要素項目を示し,より低いガス放出速度を得るために今後何が必要かを考える.超・極高真空装置作製を計画するための資料としては,この真空構造材料からの水素放出が現在どの材料でどこまで制御できる状態にあるかの技術的水準を示す.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (945K) -
大西 晃2000 年 69 巻 1 号 p. 29-32
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー宇宙用熱制御材料について,設計の短縮化をねらった光学定数により推算する高分子フィルムを基材にした多層膜熱制御材料の設計・製作を,また全半球放射率が自己温度で自動的に変化する,高機能なぺロブスカイト構造Mn酸化物を活用する放射率可変型ラジエーター素子の開発を紹介する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (3427K) -
東原 秀和2000 年 69 巻 1 号 p. 33-37
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー単層か多層かを問わず,カーボンナノチューブはドナー型およびアクセプター型層間化合物を生成しうる両性物質である.加えて,カーボンナノチューブはリチウムイオンの電気化学的吸蔵に格好な固有の組織形態とナノ空間を有している.研究の現状はいまだ萌芽的であるが,このようなナノチューブに特徴的な化学的,構造的性質から,リチウム2次電池の高電気容量負極材料として,高いポテンシャルが期待できる.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1283K) -
マイクロアクチュエーターへの展開宮崎 修一2000 年 69 巻 1 号 p. 38-42
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーマイクロマシンを動かすためには,高性能の超小型駆動源の開発が不可欠である. Ti-Ni系形状記億合金スパッタ薄膜は,最も強力で大変位を発生するマイクロアクチュエーター材料として期待され,開発が進められてきた.開発の当初の目標はバルク材料並みの特性をスパッタ薄膜で実現することであったが,最近は薄膜固有の内部組織とそれに伴う特性改善によりバルク材料並みの安定した特性も実現し, Ti-Ni合金薄膜のアクチュエーター特性はすでに実用レベルに到達している. Ti-Ni系合金薄膜の開発の現状と, Si基板の微細加工により作製したTi-Ni薄膜マイクロアクチュエーターの開発の動きについて紹介し,この分野の将来展望を行う.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (2822K) -
梅澤 喜夫2000 年 69 巻 1 号 p. 43-47
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー本稿は,イオンチャネル蛋白の概念に基づく分子センサーについての総説である.種々の合成リセプターで化学修飾した固体電極上で,電気化学不活性な目的物質が,そのリセプターに選択的に結合することで,電気化学活性な化学種(マーカー)の電極酸化還元反応を選択的に制御させる.この機構により,きわめて一般的に多くの電気化学不活性な化学種の電気化学的検出法ができる.マーカーイオンの膜透過の化学選択的開閉を著しく概念的に,しかも一般性をもって実現した分子間透過型チャネルセンサーと,より細胞のイオンチャネルに似た分子内孔透遇型チャネルセンサーについて,それぞれの機構と具体例を述べている.
最後に本法の一般性,汎用性,将来の有用性について述べている.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (574K) -
竹田 精治2000 年 69 巻 1 号 p. 48-51
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーシリコンにおけるナノ構造の新しい作成ルートを紹介する.大きく分類して, 1) 金を触媒とする結晶成長法と, 2) 電子照射による構造変換法である. 1) の方法ではシリコン・ナノウィスカー,シリコン・ナノスフェアチェインを成長させることができる.また, 2) の方法ではシリコン表面ナノホール,シリコン結晶・非晶質人工格子などの作成が可能となる.この新しいナノ構造の生成メ力ニズムと期待される利用法もあわせて述べる.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (2982K) -
佐々木 浩紀, 小谷 恭子, 和田 浩, 高森 毅, 牛窪 孝2000 年 69 巻 1 号 p. 52-56
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー高性能化する集積回路における,ピンボトルネックの問題を解決するために,回折光学素子を配置した光学基板を用いたチップ間光自由空間光配線を提案し,評価実験を行った.厚さ3mmの石英基板を用い, 40mmの配線距離を実現する光学基板を試作し,光軸上で回折限界に迫る結像特性を確認した.伝搬損失を改善するための,回折光学素子の基礎検討結果と今後の設計方針に関しても報告する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (2218K) -
高木 康博2000 年 69 巻 1 号 p. 57-60
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー計算機ホログラム (CGH) を用いた高密度光強度パターンの発生について報告する,従来はCGHの再生像の劣化要因とされてきたスペックルを積極的に制御することで,光の強度分布を従来の2倍の細かさ (λ/4NA) で制御ずることを可能にした.これを実現する超解像CGHの設計方法および高密度強度パターンの発生実験について述べる.さらに,強度パターンの制御性を向上させる方法について説明し,光リソグラフィーへの応用例を紹介する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (3039K) -
浦野 俊夫, 本郷 昭三2000 年 69 巻 1 号 p. 61-62
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーPDF形式でダウンロード (222K) -
藤平 正道2000 年 69 巻 1 号 p. 63-64
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
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大西 洋2000 年 69 巻 1 号 p. 65-66
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
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権田 俊一2000 年 69 巻 1 号 p. 68-72
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー材料・プロセスの設計を行う際に必要な物性値を簡単に見つけたり,推測できるデータブック・データベースや推測方法,あるいは物性値を計算で見積もるときのシミュレーションの方法やシミュレーターについて紹介する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1909K) -
太田 威夫2000 年 69 巻 1 号 p. 73-75
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー相変化書き換え型光ディスクは,カルコゲナイド(酸索以外のVI族元素を含む材料)薄膜の結晶化とアモルファス化を応用した光ディスクである.オーバーライト(重ね書きによる書き換え)機能とCD互換性をもつ, PD, CD-RW, 2.6GBおよび4.7GB/面の書き換え形DVDを実現している.ディスク構成材料と構造の改良により,書き換え100万サイクルを達成.カルコゲナイド材料は光学特性の波長依存姓が小さく,青色レーザーによる18Gbit/in2の記録密度を実現でき,さらなる密度の拡張性を有する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1866K) -
金子 正彦2000 年 69 巻 1 号 p. 76-77
発行日: 2000/01/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー光磁気ディスクの構造,記録再生の原理を述べ,その特徴を紹介する.第1世代のディスク以来の高密度化の流れをレビューして,現在および今後の高密度化について概説する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1835K)
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