巻号一覧
70 巻, 4 号
選択された号の論文の17件中1～17を表示しています
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池上 英雄2001 年 70 巻 4 号 p. 383
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
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ASET成果報告と技術展望関根 誠2001 年 70 巻 4 号 p. 387-397
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーASETは電子産業の基盤技術研究を促進するために1996年2月に発足した.その1テーマとして,プラズマ技術研究室では,科学的理解に基づいた見通しのよい効果的なプラズマエッチング技術の研究を 5 年計画で進めた. Sio2 エッチングに使うフロロカーボン (CF) ガスのプラズマ,表面反応およびモニターや解析手法,モデリングの研究を行い,エッチングの全体像の解明を試みた.本報告では, OFラジカル生成,ウエ八一表面および微細ホール中での輸送,エッチング反応を律速する CF重合膜の形成についての研究成果を報告する.また,モニター,反応モデルとモデリングを駆使したプロセス制御について議論し,将来展望について述べる抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (10829K) -
菅井 秀郎2001 年 70 巻 4 号 p. 398-404
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー最近,プラズマを制御する新しいパラメーターとして励起周波数が注目されている.すなわち,放電周波数を通常の13.56MHzからVHF帯やUHF帯に上げることによって,高密度化・低圧力化・低電子温度化を促進し,最終的にラジカル組成を望ましい方向に制御できるのではないか,という可能性に期待が集まっている.本稿では,励起周波数によってプラズマ諸量が変わる物理機構を放電形式ごとに整理して概説する.結論として低電子温度化の主な要因は,励起周波数というよりも電子加熱の空間構造にあり,体積加熱から表面加熱に移るときに電子温度が低くなることを指摘する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (5636K) -
三重野 哲2001 年 70 巻 4 号 p. 405-410
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー球殻状炭素クラスター,フラーレンは,1990年の大量合成の成功以来,爆発的にその物理化学的性質や応用が研究されてきた.大気中で安定であること,豊富な炭素原料から比較的容易に合成できること,環境への負荷が小さいことなどで,今後の新材料としての利用が期待される.高次フラーレン,金属内包フラーレン,内包力プセル,さらに炭素ナノチューブなどの炭素クラスターは,アーク放電を中心とした方法で大量合成される.フラーレン類が新材料として社会で普及するためには,製造コストの低減が必要である.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (4027K) -
松井 真二, 落合 幸徳, 山下 浩2001 年 70 巻 4 号 p. 411-417
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー半導体集積回路に代表されるデバイス微細加工のキーテクノロジーである電子ビーム露光技術の最近の動向と将来展望について述べる.パターン描画機能をもっ電子ビーム露光技術は,現在の量産用リソグラフィー技術である光露光の高精度マスク描画,少量多品種システムLSI製造に不可欠の技術である.近年,波長制限によって,光露光技術が解像度限界に達しつつあり, 70nm 以降の次世代量産技術として,分割転写方式,マルチビーム方式などの高スループット電子ビーム露光技術が注目されており,それらの最新動向について解説する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (7195K) -
橋口 征四郎2001 年 70 巻 4 号 p. 418-422
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリープラズマディスプレイパネルセルに課される特性を気体放電の観点から述べた.流体モデルによるシミュレーションの方法と,計算に必要とされる物理量の求め方を示した,現在行われているシミュレーションの成果を示し,将来の高効率なプラズマディスプレイの方向を示唆した.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (2802K) -
清水 康博, 江頭 誠2001 年 70 巻 4 号 p. 423-427
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー半導体ガスセンサーのガス検出特性およびその長期安定性に影響を及ぼす諸因子について,これまでに解明された事柄と未解明の問題点を述べる.特に,ガス検出特性に及ぼす結晶子径効果,貴金属触媒による増感効果,マクロな形態効果を解説する.また,センサーの微細加工・薄膜化と長期安定性の賦与を検討する際の留意点についても言及する.さらに,半導体ガスセンサーの新しい展開例も報告する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1839K) -
金月 俊樹, 山本 雅彦2001 年 70 巻 4 号 p. 428-432
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー現在多用されているスパッタ蒸着アモルファス短周期多層膜を用いた高角入射軟X線ミラーはすでにその性能の限界に達しており,反射性能の向上のためのブレークスルーが求められている.この課題を解決するため,最近,原子層エピタキシー法による半導体系短周期超格子の軟X線ミラーへの応用が試みられ,また従来は適用が困難であった通常の分子線エピタキシー法を基礎として,各種元素の組み合わせの検討により困難を克臓したAI系短周期金属超格子の軟X線ミラーへの適用が検討されており,展望が開けてきた。本稿では,これら超格子の特徴,成長・構造ならびにその軟X線ミラーへの応用の可能性について報告する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (2265K) -
寒川 誠二2001 年 70 巻 4 号 p. 433-437
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー高精度酸化膜エツチングに必要不可欠なCF3+イオンとCF2ラジカルをUHF(500 MHz)プラズマ中で選択的に高濃度に生成できるガス構造を検討し,C-I結合および C=C 結合をもつ CF3I と C2F4 ガスがそれぞれCF3+ と CF2 の効率的なソースになることを実証した.これらのガスを混合することでCF3+ およびCF2の密度を独立に精度よく制御でき,高速高選択酸化膜エッチングが実現できることがわかった.また,これらのガスは大気寿命か短く,地球温暖化効果も低いので環境共生型ガスケミストリーという特徴も併せもっている.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (3847K) -
河合 良信, 村田 正義, 竹内 良昭, 真島 浩2001 年 70 巻 4 号 p. 438-442
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリーラダー電極を用いてVHFプラズマを生成し,水素およびシランガスプうズマの特性をラングミュアプローブにより詳しく調べた.放電電源周波数を高くすると,電子密度は 1010cm-3 を超える.一方,電子温度は2eV以下に減少することがわかった.また,アモルファスシリコン膜の製膜速度も周波数が高くなるにつれて大きくなった.120MHzで4nm/s 以上の製膜速度が得られた.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1621K) -
足立 和郎, 古川 静枝, 天川 正士2001 年 70 巻 4 号 p. 443-447
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー原子力発電においては,その運転や保守,また将来の発電所解体の過程で,種々の放射性廃棄物が発生する.処分場の有効利用と廃棄物性状の安定化のため,処分前に圧縮や溶融などの処理が施される。金属や高融点のセラミックスの溶融には,高温を発生でき,排ガスの量が少ないアークプラズマによる溶融の適用が期待されている.しかし,加熱対象の混入や炉内雰囲気の変化により,アークプラズマの加熱効率や安定性が変化するという実用上の課題がある.ここでは,アークプラズマによる溶融処理の特徴と実用上の課題を解決する制御法について紹介する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (3557K) -
伊藤 剛仁, 寺嶋 和夫2001 年 70 巻 4 号 p. 448-449
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
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石井 彰三2001 年 70 巻 4 号 p. 450-451
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
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一木 隆範, 堀池 靖浩2001 年 70 巻 4 号 p. 452-453
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
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八瀬 清志, 高田 徳幸, 谷垣 宣孝2001 年 70 巻 4 号 p. 455-459
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー1987年のTangらの研究に始まる有機 EL (Ellectroluminescent) 素子の作製は,日本においては有機低分子系の真空蒸着法が,欧米においては高分子系のスピンコート法が主に用いられている.本講座では,日本で多用されているドライ系の真空蒸着法の概説,構造制御による偏光発光,光誘起発光強度の増加,およびレージングについて紹介する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1622K) -
三宅 正司2001 年 70 巻 4 号 p. 460-464
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー半導体プロセスを中心とする材料加工において,真空中の低温プラズマを利用することは必須となっている.そして,素子のさらなる微細化および高スループットを満たすために,気体の圧力ができるだけ低い条件で,大面積にわたって一様で,かつ電子やイオンのエネルギー分布まで制御した高密度プラズマを生成することが重要になりつつある.本講座においては,このような図標を達成するべくこれまで開発されてきた種々のプラズマ源のうち,外部磁場を加えないものを取り上げ,その発生技術や特徴をできるだけ平易に解説する.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (3322K) -
山崎 弘郎2001 年 70 巻 4 号 p. 465-469
発行日: 2001/04/10
公開日: 2009/02/05
ジャーナル フリー電子計測技術の基盤となる計測の基礎を,測定対象に関する不確かさを減少させる技術の立場で解説ずる,基礎的概念として,計測対象のモデル構築,量の体系との結合による数値化記述,および計測により得られる情報量などについて述べる.次に,電子技術やデジタル情報技術などを応用した最近の電子計測機器技術について計測の自動化と知能化などの技術成果を解説する.最後に,これからの計測技術が情報を量の体系と結合して数値で衷示するだけでなく,対象に関する知識の体系と結合して言葉で表現する技術へ拡張されつつあることに触れた.抄録全体を表示PDF形式でダウンロード (1093K)
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