イオン注入技術は半導体以外の分野でも研究が盛んに行われ,観究段階では多くの成果を得た.しかし,産業部品の多くは複雑形状を有しており,イオンビームの指向性から複雑形状物への均一注入,成膜は困難であった.そのため装置の高懸格もあいまって広く産業化が進まなかった.
1986年米国で開発されたPSII (Plasma Source lon lmplantation) によって複雑形状物に安価で,生産性のよい均一注入,成農ができることが兇い出された.
プラズマ中の被加工物に負のパルス電圧を印加することにより,プラズマ中のイオンを引き出し,被 加工物に高:エネルギー注入するもので,ここに三次元イオン注入による立体形状物の表面改質を紹介する.
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