ホスフィン修飾Ru/CeO
2触媒がカルボン酸の末端アルキンへの位置および立体選択的付加反応に、高活性を示すことを見出した。ホスフィン修飾Ru/CeO
2触媒はRu/CeO
2触媒を1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン (dppb)共存下、水素雰囲気中100
oCで20分間処理して調製した。この触媒存在下、安息香酸とエチニルベンゼンとの反応をトルエン溶媒中、80
oCで24時間行ったところ、対応するアンチマルコフニコフ型付加体が位置・立体選択的に高収率で得られた (収率:95%、選択率:
Z体98%)。
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