SIMS分析において，微小領域及び浅い領域の深さ方向の正確な濃度分布測定は容易ではない。入射イオンエネルギーの低下に伴い，ビーム径が広くなりクレータエッジからのノイズが増え深さ分解能が低下するためである。そこで，試料をメサ構造の微小な突起状に加工し周辺部を除去する方法を採用した。この方法により，信号の取り込み領域を走査領域の60-70％にまで増やしても，極めて良好な深さ方向プロファイルがえられた。

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シリコン表面洗浄での清浄度や酸化性制御は重要であるが純水中微量有機不純物の影響は良く知られていない。本報告では、典型的な有機不純物であるアルキルアミン化合物を含む純水中に水素終端ウエハ表面を浸漬し、アミン化合物の表面吸着性や水素終端面の酸化過程をToF-SIMSを用いて調べた。疎水性の強いアミンほど初期吸着しやすく、またシリコン面を終端している水素を引抜くことで酸化反応の触媒として機能し、不完全な水素終端面をもたらす可能性が高いことがわかった。

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ポリマー表面等にレーザーやイオンビームを照射することで脱離するイオンはプローブとの相互作用によりフラグメント化している。C₆₀においても炭素が2つずつ外れたフラグメントイオンが観測されており、その解離機構を解明することはC₆₀の結合状態や反応性を理解するために重要と考えられる。本研究では分子動力学法を用いてフラーレンカチオンの構造安定性や解離機構を解析し、レーザー脱離法やTOF-SIMSに現れるフラグメント化との対応を調べる。

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