Um den Zusammenhang zwischen der EMK und der Respiration der Froschhaut unter verschiedenen Bedingungen zu erforschen, wurden die EMK nach der Kompensationsmethode und der O
2-Verbrauch mittels des Barcroftschen Manometers parallel zueinander untersucht.
1) Wird die Epithelfläche mit einer 20%igen Silbernitratlösung für kurze Zeit wie 1''-2'' verätzt, so wird die EMK beträchtlich oder, bis auf Null herabgesetzt, aber der O
2-Verbrauch wird durch diese Prozedur kaum beeinflusst. Wird dieselbe Lösung auf die Serosafläche angewendet, so wird die EMK weniger stark beeinträchtigt als der O
2-Verbrauch.
2) Wird die Epithelfläche mit der Rasierklinge abgeschabt, so wird die EMK sofort bis auf Null herabgesetzt, aber der O
2-Verbrauch wird kaum beeinflusst, und beim Abschaben der Serosafläche ist das Resultat im grossen und ganzen umgekehrt.
3) 0, 05%ige und 0, 5%ige Saponin-Ringerlösung wirken auf die EMK and den O
2-Verbrauch hemmend, aber die Hemmungsgrösse ist bei der EMK viel grösser als beim O
2-Verbrauch. Aus diesen Tatsachen geht ohne weiteres hervor, dass das Hautpotential an den Epidermisschichten lokalisiert ist.
4) Wird die Haut für 30 Minuten einer so hohen Temperatur wie über 30°C ausgesetzt, so werden die EMK und der O
2-Verbrauch herabgesetzt, und zwarin verschiedenem Masse: Bei einer 30 Minuten langen Anwendung einer Temperatur von 46°C wird die EMK bis auf Null herabgesetzt, während noch 46% des O
2-Verbrauches bestehen bleiben.
5) Die M/50-KCN-Ringerlösung kann selbst bei genügend langer Wirkungsdauer wie z. B. über 5 Stunden den O
2-Verbrauch nicht völlig hemmen. Die M/750-KCN-Ringerlösung kann die EMK auf Null bringen, aber den O
2-Verbrauch nur um 57% vermindern.
4) und 5) zeigen, dass ein bestimmter Bruchteil, wie etwa 40% des normale O
2-Verbrauchs für die Erhaltung des Hautpotentials notwendig ist.
Am Schluss spreche ich Herrn Prof. K. Motokawa für seine freundliche Leitung und Unterstützung bei dieser Arbeit meinen herzlichsten Dank aus, und auch Dr. T. Narita bin ich für seine freundliche Mithilfe zu Dank verpflichtet.
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