Novel Lift-off Resist Process for Sub-100nm lead width GMR Heads by using Si-containing Bi-layer Resist

アジア・太平洋化学工学会議発表論文要旨集

Asian Pacific Confederation of Chemical Engineers congress program and abstracts

セッションID: 3P-05-001

DOI https://doi.org/10.11491/apcche.2004.0.842.0

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主催: The Society of Chemical Engineers, Japan

Novel Lift-off Resist Process for Sub-100nm lead width GMR Heads by using Si-containing Bi-layer Resist

Keiji Watanabe, Shoichi Suda, Masayuki Takeda, Masatoshi Nagai

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© 2004 The Society of Chemical Engineers, Japan

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