主催: 日本液晶学会
会議名: 2009年 日本液晶学会討論会
開催地: 東京農工大学 小金井キャンパス
開催日: 2009/09/13 - 2009/09/15
これまで我々は、キラル有機ラジカル液晶性化合物の、液晶相における電気・磁気物性について研究を行ってきた。今回、液晶分子の磁場応答性の向上を目的として、キラル有機ビラジカル化合物を設計、合成し、N*-SmA*相系列を示すことを明らかにした。温度可変EPR測定を用いて常磁性磁化率の温度依存性を評価し、モノラジカル化合物と比較したところ固相-液晶相転移に伴う常磁性磁化率の上昇率は、ビラジカル化合物の方が大きいと分かった。