大分大工
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カルボキシル基残基を2つ有するマロン酸誘導体を合成し,それとアミン系の低分子と高分子とのイオンコンプレックスを合成した.イオンコンプレックスは,スメクチックA相およびカラムナー相を形成した.
液晶討論会講演予稿集
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