新しいネマチック液晶化合物の研究(3) : ROCH2-を有するフェニル-シクロヘキサンカルボキシレート型液晶化合物の合成と性質

液晶討論会講演予稿集

Online ISSN : 2432-9959
Print ISSN : 1880-3539
ISSN-L : 1880-3539

第8回液晶討論会

セッションID: 3V04

会議情報

主催: 応用物理学会, 高分子学会, 日本化学会

会議名: 第8回液晶討論会

回次: 8

開催地: 新潟大学

開催日: 1982/10/04 - 1982/10/05

新しいネマチック液晶化合物の研究(3) : ROCH₂-を有するフェニル-シクロヘキサンカルボキシレート型液晶化合物の合成と性質

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