日本ゴム協会誌
Print ISSN : 0029-022X
ポリアミドのレジリエンス
藤本 勝也
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1961 年 34 巻 10 号 p. 778-782

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抄録

チイロン66およびナイロン6のレジリエンスをダンロップ•トリプソメーターによつて-70°Cより250°Cまでの温度範囲で測定した. ナイロン66では220°C, 95°Cおよび-25°Cに中心をもつ3つの分散域が, ナイロン6は70°Cおよび-10~-30°Cに分散がみられた. ナイロン66の220°Cの分散は分子鎖の充填がより対称となる結晶構造の転移であるとした. 他の分散域は非晶部分の転移と考えた. 推定した見掛けの活性化エネルギーから, γ転移はアミド基間のポリメチレン鎖の運動に, β転移はアミド基1個を含む主鎖の運動に, α転移は4~5個程度のアミド基を含むセグメントの運動に対応するとした.

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