電子線ホログラフィーの磁気記録への応用
1984 年 38 巻 2 号 p. 151-156
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1984 年 38 巻 2 号 p. 151-156
最近, 日立中研では, 電子線ホログラフィー技術の実用化に成功し, その再生系に干渉顕微鏡法を導入することにより, ミクロ領域の空間磁界を観察する手法を開発した.今回, これを磁気記録状態の観察に応用して, 記録ビット問の遷移領域における磁化の分布状態を明らかにし, また, Co薄膜で170kBPIの高密度面内飽和記録を確認した.
