日本マイクログラビティ応用学会誌
Print ISSN : 0915-3616
SFU (Space Flyer Unit ) による微小重力環境下での InGaP 気相成長実験
越智 誠司 谷村 純二石川 博章上原 康大串 哲朗新谷 博光薮内 賀義高田 志郎古藤 悟三井 興太郎三橋 豊樋口 英世酒井 宏
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1997 年 14 巻 3 号 p. 239-

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抄録
A vapor phase epitaxy of InGaP single crystal on GaP in a closed ampule using chemical vapor deposition (CVD) has been studied under microgravity (µ-g) in a gradient heating furnace (GHF) loaded in space flyer unit (SFU). The targets of the flight experiments are (i) to improve uniformity of the crystal, and (ii) to obtain new knowledge about the gas transport and crystal growth mechanism. The crystals grown under µ-g were demonstrated to have an excellent uniformity of the layer thickness and matrix element content by suppression of the convection. It has also been proved that under microgravity the tranport rate follows simple diffusion theory even in the vapor phase growth with chemical reactions.
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© 1997 日本マイクログラビティ応用学会
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