低シリカ蓄積変異体イネ<I>lsi1</I>におけるケイ酸処理による生長促進効果の解析

日本作物学会講演会要旨集

第229回日本作物学会講演会

DOI https://doi.org/10.14829/jcsproc.229.0.106.0

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主催: 日本作物学会

光合成・物質生産・遺伝子・代謝・蓄積

低シリカ蓄積変異体イネlsi1におけるケイ酸処理による生長促進効果の解析

*湯淺高志, 伊佐磨美, 白淑琴, 横山拓史, 馬建鋒, 石橋勇志, 井上眞理

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キーワード: イネ, ケイ酸, 低シリカ蓄積変異体1, X線分析顕微鏡

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p. 106

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