日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
Print ISSN : 0385-6275
ISSN-L : 0385-6275
シリコンのエピタキシャル成長における表面反応の理論的考察
大下 祥雄, 高田 俊和, 石谷 明彦
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1988 年 15 巻 1 号 p. 51-

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© 1988 日本結晶成長学会
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