日本結晶成長学会誌
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常圧H_2雰囲気下におけるGaAs(001)面からのAs脱離過程と(2×4)再構成面の形成機構 : 結晶成長理論シンポジウム
松尾 有里子寒川 義裕熊谷 義直入澤 寿美纐纈 明伯
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2002 年 29 巻 2 号 p. 83-

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抄録

As desorption process from GaAS(001) surface under atmospheric pressure of hydrogen is investigated by ab initio clculation. The value of the activation energy obtained from the calculations is close to the experimental value by in situ gravimetric (GM) method during the (1×1) to (2×4) transition. Our results show that H-adsorbed (2×4) reconstructed surfaces exist under the H2 ambient, and then As atoms on the surface desorb from the surface as As_2H_2 molecules.

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© 2002 日本結晶成長学会
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