日本物理学会講演概要集
Online ISSN : 2189-0803
ISSN-L : 2189-0803
セッションID: 28pXJ-9
会議情報
28pXJ-9 人工周期構造を持つ熱酸化シリコン基板上におけるsexithiopheneの面内選択配向成長(28pXJ 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
池田 進, 筒井 謙, 江面 知彦, 宮副 裕之, 寺嶋 和夫, 島田 敏宏, 和田 恭雄, 斉木 幸一朗
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