カシミール効果による自立グラフェン膜の変形

抄録

自立したグラフェンと基板間距離が近い場合，グラフェンは基板との間に生じるカシミール力で変形する．またそれに伴い，グラフェンの共振周波数は張力の増加により高周波数側にシフトする．これらグラフェンの機械的特性が基板との距離によりどのように変化するかについてディラックモデルを用いて理論的に考察する.