Si Epitoxial GrowthにおけるSiO_2被膜のMask効果(1) : 半導体(エピタキシー)

日本物理学会春季分科会講演予稿集

Online ISSN : 2433-1120

セッションID: 9a-D-1

DOI https://doi.org/10.11316/jpsgaiyob.1964.5.0_213

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Si Epitoxial GrowthにおけるSiO_2被膜のMask効果(1) : 半導体(エピタキシー)

高林眞, 勝村紘

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