薄膜太陽電池製造装置開発に向けたSiH<sub>4</sub>/H<sub>2</sub>プラズマにおける水素ラジカル表面損失確率計測

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第58回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 26p-BG-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.1.0_1848

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 58

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2011/03/24 - 2011/03/27

薄膜太陽電池製造装置開発に向けたSiH₄/H₂プラズマにおける水素ラジカル表面損失確率計測

*阿部祐介, 竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 関根誠, 堀勝

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キーワード: 26p-BG-6, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜･表面処理, シリコン薄膜, 水素ラジカル, 表面損失確率

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