第58回春季応用物理学関係連合講演会
セッションID: 24p-BW-15
会議情報
主催: 社団法人 応用物理学会
会議名: 春季応用物理学関係連合講演会
回次: 58
開催地: 神奈川工科大学
開催日: 2011/03/24 - 2011/03/27
ラジカルアシスタントスパッタリング(RAS)によるErxY2-xSiO5 結晶薄膜の作製と評価
キーワード:
24p-BW-15,
半導体B（探索的材料・物性・デバイス）,
光物性・発光デバイス,
ErYSiO,
Photoluminescence,
Radical Assisted Sputtering
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