SIS接合用Nb/NbN/MgOヘテロエピタキシャル成長薄膜の作製と評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 31p-ZT-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_1637

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

SIS接合用Nb/NbN/MgOヘテロエピタキシャル成長薄膜の作製と評価

*紺野槙子, 澤田俊宏, 村田光茂, 川上彰, 齊藤敦, 大嶋重利

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キーワード: 31p-ZT-2, 超伝導, 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長, 超伝導

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