シリコン表面における酢酸の吸着脱離挙動(2)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 30p-W-8

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_2284

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

シリコン表面における酢酸の吸着脱離挙動(2)

内藤龍仁, *桜井あゆみ, 羽深等

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キーワード: 30p-W-8, 半導体A（シリコン）, 半導体表面, シリコン表面

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