アモルファス窒化炭素薄膜におけるフォトルミネッセンスの温度依存性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 2a-W-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_2492

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

アモルファス窒化炭素薄膜におけるフォトルミネッセンスの温度依存性

*澤畠淳二, 前島悠佑, 中村重之, 伊藤國雄, 亀友健太, 財部健一, 山本伸一

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キーワード: 2a-W-11, 半導体B（探索的材料・物性・デバイス）, 探索的材料物性, 窒化炭素

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