水溶液法を用いたGaドープZnO薄膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 31a-N-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_3406

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

水溶液法を用いたGaドープZnO薄膜の作製

*三浦正旭, 松本和也, 安部功二

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キーワード: 31a-N-4, 合同セッション, 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」, Ga, ZnO

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