Si上大粒径β-FeSi<sub>2</sub>膜マイクロチャネルエピタキシーのためのマスク種及び試料作製条件の検討

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第59回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 17p-GP17-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.1.0_3151

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 59

開催地: 早稲田大学

開催日: 2012/03/15 - 2012/03/18

Si上大粒径β-FeSi₂膜マイクロチャネルエピタキシーのためのマスク種及び試料作製条件の検討

*鈴野光史, 舟瀬芳人, 虫生寛哉, 秋山賢輔, 都甲薫, 末益崇

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キーワード: 17p-GP17-2, 半導体B（探索的材料・物性・デバイス）, 探索的材料物性, MicroChannel Epitaxy

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