RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO<sub>3</sub>薄膜の作製(II)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第73回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13p-C10-9

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_1181

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO₃薄膜の作製(II)

*高田祐介, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 小舟正文, 清水勝

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キーワード: 13p-C10-9, 薄膜・表面, 強誘電体薄膜, BiFeO3, multiferroic, sputtering

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