分子動力学法によるＧｅナノワイヤのストレス分布解析

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第73回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 12p-F4-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_2699

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

分子動力学法によるＧｅナノワイヤのストレス分布解析

*青木直成, 栗山亮, 富田将典, 図師智文, 渡邉孝信

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キーワード: 12p-F4-2, 半導体A（シリコン）, 絶縁膜技術, Ｇｅ, Nanowires, 分子動力学法

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