フォトニック結晶半導体レーザ作製を目指した電流狭窄構造の作製と評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第73回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 11p-F2-15

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_2961

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

フォトニック結晶半導体レーザ作製を目指した電流狭窄構造の作製と評価

*山内翔太, 渡辺章王, 石川史太郎, 近藤正彦

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キーワード: 11p-F2-15, 半導体B（探索的材料・物性・デバイス）, プロセス技術・界面制御, フォトニック結晶, プロセス, 半導体

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