a-SiO:H薄膜の成長過程: 1. SiH<sub>4</sub>/CO<sub>2</sub>プラズマ中の気相反応過程

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第73回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 14p-F6-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_3500

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

a-SiO:H薄膜の成長過程: 1. SiH₄/CO₂プラズマ中の気相反応過程

*木下翔太, 小渡晃平, 三坂修己, 傍島靖, 佐田千年長, 松田彰久, 岡本博明

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キーワード: 14p-F6-4, 非晶質・微結晶, プロセス技術・デバイス, a-SiO:H, プラズマCVD

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