パルス成長法による高均一自己形成Ge量子ドットの高密度化

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第73回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 13p-F6-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_3537

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 73

開催地: 愛媛大学・松山大学

開催日: 2012/09/11 - 2012/09/14

パルス成長法による高均一自己形成Ge量子ドットの高密度化

*後藤和泰, 大島隆治, 菅谷武芳, 坂田功, 松原浩司, 近藤道雄

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キーワード: 13p-F6-1, 非晶質・微結晶, シリコン系太陽電池, 太陽電池, 分子線エピタキシー, 量子ドット

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