ナノインデンテーション法によるフレキシブル基板上の酸化珪素薄膜の機械的特性評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第60回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 27p-F1-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_1391

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 60

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2013/03/27 - 2013/03/30

ナノインデンテーション法によるフレキシブル基板上の酸化珪素薄膜の機械的特性評価

*塩飽義大, 伊與田宗慶, 口山崇, 井上健二, 山本憲治, 望月正人, 関修平

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キーワード: 27p-F1-7, 薄膜・表面, 表面物理・真空, ナノインデンテーション, 酸化ケイ素

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