半導体露光用高出力ArFエキシマレーザ(120W)の開発(Ⅱ)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第60回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 28p-B2-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_1498

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 60

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2013/03/27 - 2013/03/30

半導体露光用高出力ArFエキシマレーザ(120W)の開発(Ⅱ)

*宮田隆司, 佐々木陽一, 浅山武志, 増田浩幸, 熊崎貴仁, 對馬弘朗, 黒須昭彦, 柿崎弘司, 松永隆, 溝口計

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キーワード: 28p-B2-7, ビーム応用, リソグラフィ, lithography, エキシマレーザ, リソグラフィ

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