三次元構造デバイス応用に向けたCO<sub>2</sub>レーザーアニールによる積層多結晶シリコン薄膜の形成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第60回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 28p-G6-15

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_2716

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 60

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2013/03/27 - 2013/03/30

三次元構造デバイス応用に向けたCO₂レーザーアニールによる積層多結晶シリコン薄膜の形成

*山崎浩司, 町田絵美, 堀田昌宏, 石河泰明, 浦岡行治, 池上浩

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キーワード: 28p-G6-15, 半導体A（シリコン）, Siプロセス技術, laser

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