高温アニールによる原子層堆積(ALD)Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>膜絶縁耐圧の向上

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第74回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 18p-D1-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.2.0_2143

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 74

開催地: 同志社大学

開催日: 2013/09/16 - 2013/09/20

高温アニールによる原子層堆積(ALD)Al₂O₃膜絶縁耐圧の向上

*車一宏, 齊藤達也, 大長央, 平岩篤, 川原田洋

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キーワード: 18p-D1-3, 薄膜・表面, カーボン系薄膜, 原子層堆積, アニール, ダイヤモンド

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