ナノクリスタルシリコン/CaF<sub>2</sub>共鳴トンネルダイオードの微分負性抵抗特性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第74回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19p-P9-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.2.0_3717

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 74

開催地: 同志社大学

開催日: 2013/09/16 - 2013/09/20

ナノクリスタルシリコン/CaF₂共鳴トンネルダイオードの微分負性抵抗特性

*越田悠太, 須田慶太, 桑田友哉, 傳田純也, 小池進, 瀬川美奈人, 渡辺正裕

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キーワード: 19p-P9-2, 半導体B（探索的材料・物性・デバイス）, 超薄膜・量子ナノ構造, 共鳴トンネル, ナノクリスタルシリコン, 量子井戸

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