Cu配線層中に形成した高オンオフ比P型酸化物FET

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第74回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17p-B4-18

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.2.0_4471

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 74

開催地: 同志社大学

開催日: 2013/09/16 - 2013/09/20

Cu配線層中に形成した高オンオフ比P型酸化物FET

*砂村潤, 金子貴昭, 古武直也, 齋藤忍, 成広充, 五十嵐信行, 羽根正巳, 林喜宏

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キーワード: 17p-B4-18, 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」, BEOL-Tｒ, P型, Cu配線

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