RFマグネトロンスパッタリング法による高In組成ZnInON膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第61回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 19p-D6-9

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.1.0_1359

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 61

開催地: 青山学院大学

開催日: 2014/03/17 - 2014/03/20

RFマグネトロンスパッタリング法による高In組成ZnInON膜の作製

*松島宏一, 清水僚太, 井手智章, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

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キーワード: 19p-D6-9, 薄膜・表面, 薄膜新材料, ZnInON, sputtering, oxynitride

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