中性粒子ビームにおけるRFバイアス印加状態のモニタリングと加速機構解明2

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第61回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17p-F1-14

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.1.0_1633

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 61

開催地: 青山学院大学

開催日: 2014/03/17 - 2014/03/20

中性粒子ビームにおけるRFバイアス印加状態のモニタリングと加速機構解明2

*榊原康明, 菊地良幸, 寒川誠二

著者情報

キーワード: 17p-F1-14, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・表面処理, 中性粒子ビーム支援化学気相成長法, SiCOH系低誘電率絶縁膜

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2014 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top