Cat-CVD法による最大表面再結合速度 2 cm/s 以下の透明パシベーション膜低温形成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第61回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17p-D9-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.1.0_65

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 61

開催地: 青山学院大学

開催日: 2014/03/17 - 2014/03/20

Cat-CVD法による最大表面再結合速度 2 cm/s 以下の透明パシベーション膜低温形成

*松村英樹, 小山晃一, 東嶺孝一, ＴｈｉＴ．ｃｈａｍ, 大平圭介

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キーワード: 17p-D9-5, 分科企画シンポジウム, 結晶シリコン太陽電池の最前線, Cat-CVD, 太陽電池, 表面再結合速度

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