常圧N<sub>2</sub>/O<sub>2</sub>リモートプラズマを用いたZnO薄膜のCVD成長における不純物取り込みと伝導機構

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第75回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17p-PA5-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_3987

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 75

開催地: 北海道大学

開催日: 2014/09/17 - 2014/09/20

常圧N₂/O₂リモートプラズマを用いたZnO薄膜のCVD成長における不純物取り込みと伝導機構

*野瀬幸則, 木口拓也, 吉村武, 芦田淳, 上原剛, 藤村紀文

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キーワード: 17p-PA5-3, 合同セッションＫワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス, ZnO, CVD, 常圧プラズマ

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