高濃度リンドープn型ダイヤモンド薄膜の評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 11p-C1-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_1227

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

高濃度リンドープn型ダイヤモンド薄膜の評価

*大谷亮太, 山本卓, 小泉聡

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キーワード: 11p-C1-4, 薄膜・表面, カーボン系薄膜, ダイヤモンド薄膜, CVD, ダイヤモンド, ドーピング

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