高分子ナノシートから作製したSiO<sub>2</sub>超薄膜の抵抗変化動作

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 12p-D4-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_2320

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

高分子ナノシートから作製したSiO₂超薄膜の抵抗変化動作

*北中孝尚, 山本俊介, 宮下徳治, 三ツ石方也

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キーワード: 12p-D4-11, 有機分子・バイオエレクトロニクス, 機能材料・萌芽的デバイス, 高分子機能デバイス, 高分子, 絶縁膜, 抵抗変化メモリ

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